若手セミナー「次世代スピントロニクス技術」（令和7年度第2回）

日　時：2026年2月20日（金）15:30 ～ 16:30

場　所：名古屋大学IB電子情報館北棟7F 071講義室
　　　　　〒464-8601 名古屋市千種区不老町

交　通：「名古屋大学駅」下車，徒歩1分
　　　　道案内およびキャンパスの案内等はGoogle Map
　　　　　https://maps.app.goo.gl/VHEYsCcEyQxDhTKy7

プログラム：（講演/質疑　60分（講演：50分, 質疑10分））
　　　　　　「超短パルス光を用いた磁性の制御」
　　　　　　　　山田　貴大　氏（東京科学大学　理学院　物理学系　助教）

講演概要： 今からちょうど30年前に発見された超高速減磁現象を契機として、超短パルス光を用いた
　　　　　超高速磁性研究は大きく発展してきた。スピントロニクス分野において電流などの外場を
　　　　　用いた磁化制御が主要な研究課題であるのと同様に、本研究分野においても、光を外場と
　　　　　した磁化制御は現在に至るまで中心的な研究テーマであり続けている。本講演では、超短
　　　　　パルス光を用いた磁性制御に関するこれまでの主な発見と近年の進展を概観するとともに、
　　　　　本研究分野において我々が得てきた研究成果、特に金属磁性薄膜における磁化の超高速光
　　　　　制御に関する貢献について紹介する。

参加費：無料

対　象：若手研究者・若手技術者（参加資格は問いません）

参加希望の方：当日参加も可能ですが、人数把握のため次のURLに必要情報を入力いただけると助かります。
　　　　　　　（締め切り：2月13日）。
　　　　　　　https://forms.cloud.microsoft/r/EGf1MVMX6G

問合せ先　　名古屋大学　未来材料・システム研究所　大島 大輝
　　　　　　　Tel: 052-789-3648
　　　　　　　E-mail: oshima.daiki.n6(アット)f.mail.nagoya-u.ac.jp

主催：電気学会東海支部